新型含硅共轭聚合物的合成及表征
  • 【摘要】

    通过Sonogashira偶联反应合成了主链含苯环和炔基,侧基含有机硅基的新型含硅共轭聚合物.用1H-NMR、GPC对聚合物进行了表征,并用TGA、DSC对其进行了热性能分析,对其基本光物理性质采用UV-Vis、FL进行了初步研究.

  • 【作者】

    方雷  徐彩虹 

  • 【作者单位】

    中国科学院化学研究所,北京分子科学国家实验室,北京

  • 【会议名称】

    第十四届中国有机硅学术交流会

  • 【会议时间】

    2008-09-01

  • 【会议地点】

    杭州

  • 【主办单位】

    中国氟硅有机材料工业协会

  • 【语种】

    chi

  • 【关键词】

    共轭聚合物  硅基取代基  偶联反应  热性能