射频溅射立方氮化硼薄膜的光谱研究
  • 【摘要】

    本文使用射频(13.56 MHz)溅射两步法,分别在电阻率为5~6Ω·cm的n型Si(111)衬底和熔融的石英衬底上成功制备出立方相含量为66%的立方氮化硼(c-BN)薄膜.薄膜成分由傅里叶变换红外吸收谱(FTIR)标识,用紫外-可见分光光度计分别测量了石英衬底上BN薄膜的透射光谱T(λ)与反射光谱R(λ),台阶仪测得薄膜厚度约为400 nm,利用透射光谱和反射光谱研究了BN薄膜的光学性质,计算了... 展开>>本文使用射频(13.56 MHz)溅射两步法,分别在电阻率为5~6Ω·cm的n型Si(111)衬底和熔融的石英衬底上成功制备出立方相含量为66%的立方氮化硼(c-BN)薄膜.薄膜成分由傅里叶变换红外吸收谱(FTIR)标识,用紫外-可见分光光度计分别测量了石英衬底上BN薄膜的透射光谱T(λ)与反射光谱R(λ),台阶仪测得薄膜厚度约为400 nm,利用透射光谱和反射光谱研究了BN薄膜的光学性质,计算了BN薄膜的光吸收系数α、光学带隙Eg和折射率n. 收起<<

  • 【作者】

    姚倩  邓金祥  张晓康  汪旭洋  杨萍  陈光华 

  • 【作者单位】

    北京工业大学应用数理学院,北京

  • 【会议名称】

    第十五届全国分子光谱学学术会议

  • 【会议时间】

    2008-10-18

  • 【会议地点】

    泉州

  • 【主办单位】

    中国光学学会   中国化学会

  • 【语种】

    chi

  • 【关键词】

    氮化硼薄膜  薄膜光学  红外光谱  紫外光谱