YBACUO薄膜的液氮冷却干式刻蚀法
  • 【摘要】

    日本学者研究出一种用于制备 IC 图案的干式刻蚀法,此法用液氮来冷却试样.此技术显著改善了超导薄膜的临界电流密度,其 J_c 值比在5℃下刻蚀者高数个数量级.与5℃下刻蚀者进一步比较发现,此技术对薄膜表面损伤较小.这些结

  • 【作者】

    赵谢群 

  • 【刊期】

    稀有金属 ISTIC PKU 1993年5期

  • 【关键词】

    YBACUO  超导薄膜  液氮冷却  刻蚀法  干式