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  • 12. 化学腐蚀硅表面结构反射率影响因素的研究

  • 【来源】

    [会议论文] 全国第17次光纤通信暨第18届集成光学学术会议 - 2015

  • 【作者】

    陈程  洪玮 
  • 【摘要】

    本文针对单晶硅片在碱溶液中的腐蚀过程,利用紫外可见分光光度计来测量硅片表面反射率,发现碱溶液的浓度、腐蚀时间、添加剂的选择(无水乙醇或异丙醇)以及添加剂的浓度均对硅片表面反射率有影响.比较几个因素发现碱溶液...

  • 【关键词】

    碱腐蚀  减反结构  反射率  腐蚀液 
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