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  • 2. 气液两态物质的杂质含量探讨

  • 【来源】

    [会议论文] 全国气体标准化技术委员会、全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会、全国标准样品技术委员会气体标样工作组四届四次会议、全国气体标准化技术委员会分析分会一届四次联合会议 - 2013

  • 【作者】

    郁光  庄鸿涛  周鹏云  方华 
  • 【摘要】

    本文以氨为例,研究气液两态物质的杂质含量差异.采用GC-9560-HG氦离子(PDHID)气相色谱仪测定气态氨和液态氨中的杂质,结果表明,液态数据相对稳定,气态数据差异很大.因此,氨的分析只能用液氨数据,蒸汽态氨体现不出氨中杂...

  • 【关键词】

    气相色谱仪  气态氨  液态氨  取样方式  氦离子色谱法 
  • 3. 四氟化硅中杂质含量氦离子化气相色谱分析法

  • 【来源】

    [会议论文] 全国气体标准化技术委员会、全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会、全国标准样品技术委员会气体标样工作组四届三次会议、全国气体标准化技术委员会分析分会一届三次联合会议 - 2012

  • 【作者】

    方华  周朋云  庄鸿涛  杨康  邓建平 
  • 【摘要】

    一、引言四氟化硅是目前微电子工业中用量较大的等离子蚀刻气体之一,其主要用于氧化硅和硅化钽的等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,另外,四氟化硅也是...